Hayır, mono etilen glikol (MEG) saf veya uygun şekilde formüle edildiğinde genellikle metallere karşı aşındırıcı değildir, ancak bozunma veya kontamine koşullar altında aşındırıcı hale gelebilir.
Saf MEG'in tipik olarak karbon çeliği ve paslanmaz çelik gibi yaygın mühendislik metallerine karşı kimyasal olarak kararlı olduğu kabul edilir ve korozyon oranları şu kadar düşüktür:<0.1 mm/year when properly inhibited in closed-loop systems. In this condition, it is widely used in glycol dehydration units and heat transfer systems where metal integrity must be maintained over long operational cycles.
Ancak korumasız veya engellenmemiş sistemlerde,Mono-etilen glikolzamanla glikolik asit ve oksalik asit gibi organik asitlere bozunabilir. Bu gibi durumlarda korozyon oranları önemli ölçüde artabilir-çalışmalar, bozulmuş glikol sistemlerinin, özellikle asit oluşumunun hızlandığı 120 derecenin üzerindeki yüksek sıcaklıklarda sudan 4 kata kadar daha aşındırıcı hale gelebileceğini göstermektedir.
Proses mühendisliği açısından bakıldığında korozyon riski büyük ölçüde pH kontrolüne bağlıdır. Bakımı düzgün yapılmışMEG glikol sistemler tipik olarak asit oluşumunu baskılayan ve karbon çeliği ekipmanı koruyan 8,0-9,5 pH aralığında çalışır. pH 6,0'ın altına düştüğünde korozyon oranları keskin bir şekilde artar ve çoğu zaman acil kimyasal işlem veya glikol ıslahı gerektirir.
Endüstriyel gaz dehidrasyon ve ısı transfer sistemlerinde, korozyon önleme paketleri genellikle 100–500 ppm konsantrasyonlarda eklenir ve böylece boru hatlarının, yeniden kazanların ve ısı eşanjörlerinin uzun-vadeli korunması sağlanır. Bu inhibitörler olmadan, düşük-oksijenli ortamlarda bile, özellikle ısıya-kararlı tuzların ve bozunma yan ürünlerinin{-var olduğu durumlarda, lokal korozyon yaşanabilir.
MEG Korozyon Riski ve Davranış Sınıflandırma Tablosu
| MEG Sisteminin Durumu | Korozyon Davranışı | Tipik Korozyon Oranı | Anahtar Mekanizması | Risk Düzeyi |
|---|---|---|---|---|
| Saf MEG (taze, sınırsız) | Genellikle metalleri-aşındırmaz | < 0.1 mm/year | Stabil glikol, asit oluşumu yok | Düşük |
| İnhibe edilmiş MEG (uygun şekilde işlenmiş sistem) | Koruyucu / korozyonu-bastırıcı | < 0.05 mm/year | pH tamponlama + korozyon önleyiciler | Çok Düşük |
| Eski MEG (küçük bozulma) | Biraz aşındırıcı | 0,1–0,5 mm/yıl | Organik asitlerin erken oluşumu | Ilıman |
| Bozulmuş MEG (asit oluşumu mevcut) | Karbon çeliği için aşındırıcıdır | Sudan 4 kata kadar daha yüksek | Glikolik asit ve oksalik asit oluşumu | Yüksek |
| Kirlenmiş MEG (oksijen/su girişi) | Hızlandırılmış lokal korozyon | >0,5 mm/yıl (daha yüksek lokalize) | Oksijen + ısı-kararlı tuzlar | Çok Yüksek |
